セミコンジャパン2011への出展とご案内

拝啓　貴社ますますご清栄のこととお喜び申し上げます。
平素より格別のご愛顧を賜り、厚く御礼申し上げます。

さて、弊社では来る２０１１年１２月７日（木）～９日（金）に開催されます『セミコン２０１１』に出展し、下記のように弊社製品やサービスについてご紹介させていただくことといたしました。
皆様におかれましては、お忙しいことと存じますが、是非ともお立ち寄りくださいますようお待ち申し上げております。

敬具

記

１、日時及び場所

【会期】

２０１１年１２月７（水）～１２月９日（金）

【開催時間】

９：００～１７：００

【会場】

幕張メッセ

【弊社ブース】

　Ｌ－０９（ＨＡＬＬ５と６の間の次世代技術／パピリオン）

２、展示内容

• 真空乾燥システム
• バーインシステム
• 連続乾燥炉
• 遠赤外線コンベア炉
• 太陽光発電システム
• ＭｅｉＶａｃ・スッパタ装置
• ＣＶＤ成膜加工サービス
• ＳＯＩウエーハサービス

３、出展者のプレゼンテーション

出展社プレゼンテーションステージ（次世代技術／パピリオン）にてプレゼンテーションを行います。

【日時】

１２月８日（木）　１３：００～１３：２０

【タイトル】

薄膜単結晶シリコン技術とその応用

概要

ガラス、石英、サファイア、ＳｉＣ基板などに、薄膜の単結晶シリコンを形成する技術を紹介します。この技術は新たに開発されたもので、ポリシリコンよりもリーク電流が少なく、モビリティが早い特性を有しています。基本的な仕様を紹介しながら、表示デバイスをはじめ、今後の応用、展開の可能性を探っていきます。

以上