概略装置説明及び仕様
| 外観 | |
|---|---|
| 炉体寸法 | H1985×D850×W3225(フロントリアスカベン含む) |
| クリーンベンチ | H2040×D940×W3100 |
| ガスボックス | H1890×D730×W650 |
| 炉体 | |
|---|---|
| ヒーター | 6インチ炉専用5ゾーンヒーター |
| 最高使用温度 | 1250℃ |
| プロセス | ||
|---|---|---|
| 生成膜 | WET酸化(PYRO) | H2ANNEAL |
| 反応ガス | O2、H2 | H2 |
| 処理枚数 | プロセスウェーハ150枚/バッチ | |
| 処理温度 | 900℃～1150℃ | 400℃～600℃ |
| 面内均一性 | ±3％ | ー |
| 常用温度 | 800℃ | 400℃ |
この装置は過去実績の一例です。
当社は装置のカスタムメーカーとして、お客様の要望に合わせた装置を設計・製作致します。是非ご相談ください。
その他の装置設計製作例（装置関連）
装置製作例紹介
温度制御技術
環境試験装置
超高圧関連
WET装置
お問い合わせ
お電話の際には、「ウェブサイトを見て、装置設計製作の件で」とお伝え頂くとスムーズです。
