装置設計製作例:縦型拡散/CVD装置

概略装置説明及び仕様


外観
炉体寸法 H3200×W1000×D1900
炉体重量 1500kg

炉体
ヒーター 4ゾーンヒーター
最高使用温度 1250℃

搬送系
キャリア搬送 ターンテーブル方式
ウェーハ搬送 ウェーハピッチ可変式5枚一括搬送
ウェーハ搬送方式 すくい上げ方式

プロセス
生成膜 DRY酸化/WET酸化(PYRO)
反応ガス O2,H2
処理枚数 プロセスウェーハ150枚/バッチ
生成温度 800℃~1200℃
面内均一性 ±3%
常用温度 800℃

※この装置は過去実績の一例です。
当社は装置のカスタムメーカーとして、お客様の要望に合わせた装置を設計・製作致します。是非ご相談ください。

装置のカスタムメーカーブランド「O-TEC」

当社は装置のカスタムメーカーとしてO-TECブランドを展開しております。
お客様の要望に対し最適な方法で装置を設計・製作致します。

カスタムメーカーとは?

装置メーカーには同じ仕様で量産品を製造する量産メーカーと、お客様の要求仕様に適合させた装置を設計・製作するカスタムメーカーがあります。

当社はカスタムメーカーとして、お客様の要求仕様に応える装置づくりを行っています。

対応業界例
半導体、FPD、電子部品関連、ガラス加工、自動車関連、医療、薬品、食品、バイオ、環境分野、ソーラー、 燃料電池等、精密性・安全性を求められる様々な用途に装置を製作可能です。

O-TECの得意分野

当社の装置製作技術の得意分野は、長年蓄積した「高圧ガス関連技術」「温度制御技術」そして、半導体業界で培った「洗浄」「搬送」技術です

装置製作例紹介

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